NCHa型氣體純化裝置

簡潔、快速的氮氣提純方式

本技術適用於簡單分子氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳氣體和惰性氣體氬、氦、氪、氙、氖氣,以及低碳直鏈飽和碳氫化合物甲烷、乙烷、丙烷、丁烷等等氣體,加氫脫除氧雜質或者加氧脫除氫雜質,獲取高純氣體。

NCHa型氣體純化裝置
  • 高可靠性

    高可靠性

    擁有自主的先進技術,采用先進的節能工藝流程,配合使用自製的除氧催化劑,設備運氣更穩定,可靠,使用時間更長

  • 先進的程控閥門技術

    先進的程控閥門技術

    獨特的程控閥門,結構緊裝、占空間小、漂亮美觀、開關次數高達100萬次無故障

  • 占地麵積小  自動化控製

    占地麵積小 自動化控製

    裝置工藝流程簡單、結構緊湊、占地麵積小、較小空間需求,裝置自動化程度高,觸摸屏控製;開停機方便快捷,啟動時間短,可遠程控製設備啟停

  • 穩定運行的有效保證

    穩定運行的有效保證

    裝置運行穩定性好,可靠性高,常溫常壓下工作,性能好,正常使用、維護下13X分子篩使用時間,可達10年以上,除氧催化劑可達5年以上

配置功能
常規配置功能

可編程序控製器自動化控製

氮氣純度、流量在線監測

冷幹機、過濾器自動排汙;

可選配置功能

備用氮氣自動補充、自動切換

人機界麵控製係統

故障報警、自動關閉加氫電磁閥

全自動開停機

技術指標

原料氣

氫氣

氨分解氫

產品氣

氧含量:0.01%~2%

壓力: 0.5MPa~1.0MPa

純度(%):≥99%

壓力(MPa):≥原料氣壓力+0.05MPa

 

氧含量:≤10ppm

殘餘氨:≤10ppm

壓力:≥原料氣壓力+0.05MPa

純度:≥99.9999%

氧含量:≤1ppm

氫含量≤1000ppm(氫氣純化項目除外)

CO2含量:≤1ppm

含塵粒徑:≤0.01μm

含塵量: ≤1mg/m3

常壓露點:≤-60℃

注: 1. 原料氣指標不在範圍內的項目,請谘詢我司定製。

2. 對產品氣氫含量≤500ppm,-60℃<常壓露點≤-80℃我司可特殊供貨。

原理

NCHa型氣體純化裝置係采用催化反應技術,利用在催化劑參與下,促進氣體中的氧氣雜質與加入的氫氣發生化學反應而生成水,實現脫除氧雜質的目的。

 

設備組成

NCHa型氮氣純化裝置由普氮預處理係統、自動加氫係統、吸附幹燥係統、電氣控製係統四大部分組成。具體配件有觸摸屏orTD200、氮氣分析儀、流量計、質量流量控製器、可編程序控製器、除氧塔、幹燥塔、冷幹機、熱換器、過濾器、管道氣動閥、電磁閥。

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