NCHc型氣體純化裝置

較高純度氮氣再提純

適用於較高純度原料氣或小氣量規模氮氣純化裝置

高可靠性高穩定性

擁有自主的先進技術，采用先進的節能工藝流程，配合使用自製的除氧催化劑，設備運氣更穩定、可靠、使用時間更長；裝置運行穩定性好，可靠性高，常溫常壓下工作，性能好，正常使用、維護下13X分子篩使用時間可達10年以上，除氧催化劑可達5年以上。
先進的程控閥門技術

獨特的程控閥門，結構緊裝、占空間小、漂亮美觀、開關次數高達200萬次無故障
占地麵積小運行成本低

裝置工藝流程簡單、結構緊湊、占地麵積小、較小空間需求；采用並聯再生——串聯工作獨特工藝過程，解決了脫氧劑再生後溶解氫的脫附汙染純化氣體的技術難題，節省平均約10%產品氣量再生氣排放。
自動化控製維護簡單

裝置自動化程度高，觸摸屏控製開停機方便快捷，啟動時間短，可遠程控製設備啟停；吸附器結構設計獨特，氣流的分布相當均勻，接觸時間長，13X分子篩在很大程度上得到利用，可以在不停機下更換脫水幹燥劑或進行大檢修

配置功能

常規配置功能

可編程序控製器自動化控製

氮氣純度、流量在線監測

冷幹機、過濾器自動排汙

可選配置功能

備用氮氣自動補充、自動切換

人機界麵控製係統

故障報警、自動關閉加氫電磁閥

全自動開停機

技術指標

原料氣

流量： ≤80Nm³/h

氧含量： ≥99.9%

壓力： 0.5MPa～1.0MPa

氫氣

純度（%）： ≥99%

壓力（MPa）：≥原料氣壓力+0.05MPa

氨分解氫

氧含量： ≤10ppm

殘餘氨： ≤10ppm

壓力： ≥原料氣壓力+0.05MPa

產品氣

流量： ≤60Nm³/h

純度： ≥99.9999%

氧含量： ≤1ppm

氫含量： ≤1ppm（氫氣純化項目除外）

CO2含量： ≤1ppm

含塵粒徑： ≤0.01μm

含塵量： ≤1mg/m³

常壓露點： ≤-60℃

注：

1. 原料氣指標不在範圍內的項目，請谘詢我司定製。

2. 對產品氣60℃＜常壓露點≤-80℃我司可特殊供貨。

原理

裝置采用化學吸收脫氧技術脫除氣體中的氧雜質，獲取高純氣體。

它適用於原料氣體純度≥99.9%的氣體。通常為深冷空分氧氣站產出的汙氮氣體進行進一步脫氧處理，獲取高純（99.9995%～99.9999%N₂）氮氣，或者深冷空分製氮設備經多年使用後，產出氮氣純度下降，需要進一步脫氧純化處理，獲取高純氮氣。

由於本純化裝置采用新穎的並聯再生——串聯工作獨特工藝過程，解決了由於催化劑具有的“溶氫”特性而造成氫氣汙染氣體產品的難題，實現高純氣體產品中含氧、氫雜質量均小於1ppm的指標，同時達到既節能又減少純化運行成本，同樣本裝置也適用於NCHa型氣體純化裝置的氣體種類範圍。

設備組成

NCHc型氮氣純化裝置由普氮預處理係統、吸附幹燥係統、電氣控製係統三大部分組成。具體配件有觸摸屏orTD200、氮氣分析儀、流量計、質量流量計、質量流量顯示儀、可編程序控製器、除氧塔、幹燥塔、換熱器、過濾器、管道氣動閥、電磁閥。